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去氫爐或除氫爐
更新時(shí)間:2023-09-08 點(diǎn)擊次數(shù):990次

鋼鐵材料如果吸收了氫,會(huì)發(fā)生一種“氫脆”的現(xiàn)象。鈦合金尤其容易吸收氫。
工業(yè)上有利用氫脆后,金屬會(huì)喪失韌性的特點(diǎn)來粉碎金屬制取細(xì)微的金屬粉末。

明顯,作為一般的應(yīng)用是非常不希望發(fā)生氫脆的。氫脆后不但喪失韌性,硬度也明顯增高,所以加工之前要進(jìn)行去氫處理。去氫很簡單,加熱之后,滲透到金屬內(nèi)部的氫就跑出來了。鋼鐵材料如果吸收了氫,會(huì)發(fā)生一種“氫脆”的現(xiàn)象。鈦合金尤其容易吸收氫。
工業(yè)上有利用氫脆后,金屬會(huì)喪失韌性的特點(diǎn)來粉碎金屬制取細(xì)微的金屬粉末。

明顯,作為一般的應(yīng)用是非常不希望發(fā)生氫脆的。氫脆后不但喪失韌性,硬度也明顯增高,所以加工之前要進(jìn)行去氫處理。去氫很簡單,加熱之后,滲透到金屬內(nèi)部的氫就跑出來了。

除氫處理,也稱去氫處理,一般對(duì)電鍍前后必須進(jìn)行工序,特別是對(duì)高強(qiáng)度高硬度的零件在電鍍工藝中。

避免和消除的措施


1 減少金屬中滲氫的數(shù)量

在除銹和氧化皮時(shí),盡量采用吹砂除銹,若采用酸洗,需在酸洗液中添加若丁等緩蝕劑;在除油時(shí),采用化學(xué)除油、清洗劑或溶劑除油,滲氫量較少,若采用電化學(xué)除油,先陰極后陽極;在電鍍時(shí),堿性鍍液或高電流效率的鍍液滲氫量較少。

2 采用低氫擴(kuò)散性和低氫溶解度的鍍涂層

一般認(rèn)為,在電鍍Cr、Zn、Cd、Ni、Sn、Pb時(shí),滲入鋼件的氫容易殘留下來,而Cu、Mo、Al、Ag、Au、W等金屬鍍層具有低氫擴(kuò)散性和低氫溶解度,滲氫較少。在滿足產(chǎn)品技術(shù)條件要求的情況下,可采用不會(huì)造成滲氫的涂層,如機(jī)械鍍鋅可以,不會(huì)發(fā)生氫脆,耐蝕性高,附著力好,厚5~100μm,成本低。

3 鍍前去應(yīng)力和鍍后去氫以消除氫脆隱患

若零件經(jīng)淬火、焊接等工序后內(nèi)部殘留應(yīng)力較大,鍍前應(yīng)進(jìn)行回火處理,減少發(fā)生嚴(yán)重滲氫的隱患。

對(duì)電鍍過程中滲氫較多的零件原則上應(yīng)盡快去氫,因?yàn)殄儗又械臍浜捅韺踊w金屬中的氫在向鋼基體內(nèi)部擴(kuò)散,其數(shù)量隨時(shí)間的延長而增加。新的國際標(biāo)準(zhǔn)草案規(guī)定"最好在鍍后1h內(nèi),但不遲于3h,進(jìn)行去氫處理"。國內(nèi)也有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn),對(duì)電鍍鋅前、后的去氫處理作了規(guī)定。電鍍后去氫處理工藝廣泛采用加熱烘烤,常用的烘烤溫度為150~300°C,保溫2~24h。具體的處理溫度和時(shí)間應(yīng)根據(jù)零件大小、強(qiáng)度、鍍層性質(zhì)和電鍍時(shí)間的長短而定。去氫處理常在烘箱內(nèi)進(jìn)行。鍍鋅零件的去氫處理溫度為110~220°C,溫度控制的高低應(yīng)根椐基體材料而定。對(duì)于彈性材料、0.5mm以下的薄壁件及機(jī)械強(qiáng)度要求較高的鋼鐵零件,鍍鋅后必須進(jìn)行去氫處理。為了防止"鎘脆",鍍鎘零件的去氫處理溫度不能太高,通常為180~200°C。

折疊編輯本段一般除氫方法

①將需除氫的鍍件放在烘箱內(nèi)(最好放在真空爐內(nèi)),或在熱油中(適用于鍍硬鉻件),在200~250℃下處理2~3h。

②熱油中除氫能獲得與在烘箱中除氫具有同樣的效果,由于其受熱均勻,對(duì)鍍層還具有填充孔隙的作用,有利于提高鍍層的防護(hù)功能,對(duì)設(shè)備要求也更為簡單。

(2)根據(jù)工件的使用要求提出除氫方法例如鍍硬鉻,在鍍硬鉻時(shí)由于電流效率過低,只有13%~18%,大部分電流消耗在氫的析出上,氫頗易擴(kuò)散到鍍層和基體金屬的晶格中,滲氫較為嚴(yán)重,從而引起疲勞強(qiáng)度的降低,影響動(dòng)、靜負(fù)載強(qiáng)度,故在設(shè)計(jì)中應(yīng)提出鍍鉻后除氫處理的要求(除氫是在200~220℃下熱處理2~3h)。經(jīng)除氫處理之后可驅(qū)除滲入鍍層和基體中60%~70%的氫,從而大大減輕了脆性而不會(huì)降低其硬度。


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